2004年3月28～31日、東京工科大学で開催された第51回 応用物理学関係連合講演会において、修士の学生全員が研究発表をしました。
D1の秋葉が、応用物理学会講演奨励賞を受賞しました。
| 佐藤 | 酸化物ナノ構造を用いたインプリントによる高分子薄膜への表面ナノパターン形成 |
| 劉 | レーザーMBE法によるAlN/TiN積層薄膜の室温エピタキシャル成長 |
| 會田 | PLD法による非晶質Si-(O,C)系薄膜の作製とレーザーアニールによる電気特性制御 (2) |
| 原 | アダマンタンを含む有機物ターゲットのレーザーアブレーション (2) |
| 松田 | 原子ステップを利用した導電性酸化物薄膜の一次元ナノ構造の作製と評価 |
| 舘田 | 電子ビーム誘起低温成長を利用した機能性セラミックス薄膜の選択エピタキシャル成長 |