第20回 日本セラミックス協会 秋季シンポジウム

9/12〜9/14、名古屋工業大学で開催された第20回 日本セラミックス協会秋季シンポジウムにおいて、M2 秋山とM2 渡辺が参加し、研究発表を行ってきました。

秋山	PLD法による超平坦基板上窒化物系バッファ層を用いた3C-SiCエピタキシャル薄膜の作製 （3L04 / 秋山・加藤・原・佐伯・吉本）
渡辺	透明導電性 SnO2薄膜における同原子価元素ドーピングの効果 （1P18 / 渡辺・保坂・松田・三橋・吉本）