日本セラミックス協会 2009年 年会

3/16~3/18、東京理科大学野田キャンパスで開催された日本セラミックス協会 2009年 年会において、M2 加藤と保阪、およびM1 白石と杉本が研究発表をポスターセッションで行いました。
加藤SrB6バッファ層挿入によるサファイア基板上LaB6系薄膜のエピタキシャル成長
保阪強磁性金属層上へのエピタキシャルアルミナ薄膜の低温作製と評価
白石室温PLDにより成膜した高濃度LiドープNiOエピタキシャル薄膜の電気特性評価
杉本ナノパターンガラス基板上での透明導電性酸化物薄膜の作製と特性評価
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