9/14～9/17、第72回 応用物理学会学術講演会が長崎大学で行われ、M1中井とM1 宮宅およびM1 山内が研究発表を行いました。
| 中井 | PLD法による希土類ドープNiOエピタキシャル薄膜の低温成長と評価 |
| 宮宅 | 熱ナノインプリント法による0.2nm原子ステップ超平坦ガラス基板の作製と評価 |
| 山内 | (Ni,Mg)O固溶系(111)エピタキシャル薄膜の室温成長と機能化 |
第71回 応用物理学会学術講演会
9/14～9/17、第72回 応用物理学会学術講演会が長崎大学で行われ、M1中井とM1 宮宅およびM1 山内が研究発表を行いました。