日本セラミックス協会 第34回秋季シンポジウム(D2、M2学生)

2021年9月1日(水)~9月3日(金)、オンラインで開催された日本セラミックス協会 第34回秋季シンポジウムにて、D2 大賀、M2 金子(健)、渡邉が研究発表をしました。
本年度は山梨大学(甲府キャンパス)での開催が予定されていましたが、Covid-19感染拡大防止の観点からZoomを用いたオンライン開催となりました。
大賀真空紫外光照射したシクロオレフィンポリマー基板上における酸化物薄膜の室温結晶成長
(1PK04 / 大賀友瑛・金子奈帆・金子智・松田晃史・吉本護)
金子(健)真空紫外光照射によるNiOエピタキシャル薄膜の構造・物性への影響
(1K09 / 金子健太・庄司拓貴・金子智・吉本護・松田晃史)
金子(健)C面サファイア基板の表面処理によるZnO薄膜の室温エピタキシャル成長
(1PK03 / 金子健太・庄司拓貴・大賀友瑛・金子智・吉本護・松田晃史)
渡邉エキシマレーザーアニーリングによる不純物ドープGa2O3薄膜の固相結晶化および特性評価
(1K08 / 渡邉一樹・甲斐稜也・大賀友瑛・金子智・松田晃史・吉本護)
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