2018年3月17日～3月20日、早稲田大学 西早稲田キャンパスで開催された第65回 応用物理学会 春季学術講演会にて、社会人D1 丸、M1 池谷・伊藤・岩佐・山田、およびB4 森田が研究発表をしました。
| 丸 | 微細半導体プロセスにおけるシングルイベント耐性強化技術の検討（18p-F202-15 / 丸・松田・吉本） |
| 池谷 | 岩塩型Ni0.5Fe0.5O(111)薄膜の室温エピタキシャル成長におけるPLD成膜条件の影響と特性評価（19p-P11-25 / 池谷・藤元・土嶺・金子・宇佐見・谷山・松田・吉本） |
| 伊藤 | 一軸加圧下熱処理によるBi2VO5+δ薄膜の配向性固相結晶化と特性評価（19p-P6-7 / 伊藤・難波・三村・金子・舟窪・松田・吉本） |
| 岩佐 | 原子ステップ型超平坦ポリマー基板上でのフレキシブル酸化物p/n薄膜の作製と特性評価（17p-C103-13 / 岩佐・木下・中村・金子・松田・吉本） |
| 山田 | 原子ステップを有するポリマーシートへの超平坦導電性薄膜の作製（20p-B401-9 / 山田・後藤・木下・中村・金子・松田・吉本） |
| 森田 | Ga2O3薄膜の室温下レーザー照射固相エピタキシーにおける膜厚や緩衝層の影響（19p-P11-14 / 森田・中村・土嶺・金子・松田・吉本） |
