学会発表」カテゴリーアーカイブ

第65回 応用物理学会 学術講演会

9/1~9/4東北学院大学で開催された第65回応用物理学会学術講演会において、学生が各自の研究に関する発表を行いました。
佐々木レーザーMBE法によるウルツ鉱型エピタキシャル薄膜の低温合成とCAICISSによる極性評価
秋葉酸化物ガラス表面への大面積ナノインプリントと工学応用
松田Metal Oxide-Reduction-Epitaxy(MORE)法による金属エピタキシャルナノ構造の創製
酸化物ナノ構造をモールドとするナノインプリントー高分子薄膜への表面ナノパターン形成ー
舘田レーザーMBE法によるサファイア薄膜の低温成長とバッファー促進効果
岡田超平坦基板上SnO2薄膜の低温エピタキシャル成長
北村ハイドロキシアパタイトのレーザーアブレーションと薄膜作製
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秋葉君(D1)、応用物理学会 講演奨励賞受賞

D1 秋葉が、第51回 応用物理学関係連合講演会において、講演奨励賞を受賞しました。
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第51回 応用物理学関係連合講演会

2004年3月28~31日、東京工科大学で開催された第51回 応用物理学関係連合講演会において、修士の学生全員が研究発表をしました。 D1の秋葉が、応用物理学会講演奨励賞を受賞しました。
佐藤酸化物ナノ構造を用いたインプリントによる高分子薄膜への表面ナノパターン形成
レーザーMBE法によるAlN/TiN積層薄膜の室温エピタキシャル成長
會田PLD法による非晶質Si-(O,C)系薄膜の作製とレーザーアニールによる電気特性制御 (2)
アダマンタンを含む有機物ターゲットのレーザーアブレーション (2)
松田原子ステップを利用した導電性酸化物薄膜の一次元ナノ構造の作製と評価
舘田電子ビーム誘起低温成長を利用した機能性セラミックス薄膜の選択エピタキシャル成長
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2003 MRS Fall Meeting

11月末から12月始めにかけて、修士2年と博士課程の学生が米国材料科学会(MRS)にて研究発表を行いました。
佐々木Fabrication of micro- and nanopatterns on Al2O3 surface utilizing novel room-temperature epitaxy of electron beam-induced and buffer layer-enhanced growth
秋葉Construction of nano-stepped surfaces using high-temperature viscous flow of ultra-thin film silicate glass
會田Excimer Laser Annealing Of Pulsed Laser Deposited Amorphous Si-O-C System Thin Films For Controlling Photoconductive Properties
Low temperature epitaxial growth and characterization of nitride films on sapphire substrate
佐藤Fabrication of nanochannel array on functional oxide thin films
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第64回 応用物理学会 学術講演会

8/31~9/2福岡大学で開催された第64回応用物理学会学術講演会において、学生が各自の研究に関する発表を行いました。
佐々木NiO極性面上への機能セラミックス薄膜の低温エピタキシャル成長
秋葉極薄膜ガラスの表面コーティングによる結晶性酸化物薄膜の超平坦表面作製
佐藤ナノチャネル構造を有する光機能性酸化物薄膜の作製
レーザーMBE法による超平坦AlN薄膜の低温エピタキシャル成長と極性評価
會田PLD法による非晶質Si-(O, C)系薄膜の作製とレーザーアニールによる電気特性制御
松田レーザーMBE法による超平坦基板上におけるLiドープNiO薄膜の低温エピタキシャル成長
アダマンタンを含む有機物ターゲットのレーザーアブレーション
舘田電子ビーム誘起結晶化を利用した機能セラミックス薄膜のマイクロパターン
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