研究業績」カテゴリーアーカイブ

第65回 応用物理学会 学術講演会

9/1~9/4東北学院大学で開催された第65回応用物理学会学術講演会において、学生が各自の研究に関する発表を行いました。
佐々木レーザーMBE法によるウルツ鉱型エピタキシャル薄膜の低温合成とCAICISSによる極性評価
秋葉酸化物ガラス表面への大面積ナノインプリントと工学応用
松田Metal Oxide-Reduction-Epitaxy(MORE)法による金属エピタキシャルナノ構造の創製
酸化物ナノ構造をモールドとするナノインプリントー高分子薄膜への表面ナノパターン形成ー
舘田レーザーMBE法によるサファイア薄膜の低温成長とバッファー促進効果
岡田超平坦基板上SnO2薄膜の低温エピタキシャル成長
北村ハイドロキシアパタイトのレーザーアブレーションと薄膜作製
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研究成果を新聞発表しました

酸化物ナノ細線に関するSPring-8での研究成果が新聞(6/29付)に掲載されました。
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秋葉君(D1)、応用物理学会 講演奨励賞受賞

D1 秋葉が、第51回 応用物理学関係連合講演会において、講演奨励賞を受賞しました。
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第51回 応用物理学関係連合講演会

2004年3月28~31日、東京工科大学で開催された第51回 応用物理学関係連合講演会において、修士の学生全員が研究発表をしました。 D1の秋葉が、応用物理学会講演奨励賞を受賞しました。
佐藤酸化物ナノ構造を用いたインプリントによる高分子薄膜への表面ナノパターン形成
レーザーMBE法によるAlN/TiN積層薄膜の室温エピタキシャル成長
會田PLD法による非晶質Si-(O,C)系薄膜の作製とレーザーアニールによる電気特性制御 (2)
アダマンタンを含む有機物ターゲットのレーザーアブレーション (2)
松田原子ステップを利用した導電性酸化物薄膜の一次元ナノ構造の作製と評価
舘田電子ビーム誘起低温成長を利用した機能性セラミックス薄膜の選択エピタキシャル成長
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平成15年度 修士論文発表会

修士課程2年の會田、劉および佐藤が修士論文発表を行いました。
會田SiO/炭素ターゲットのレーザーアブレーションと新機能薄膜の創製
レーザーMBE法による窒化物系エピタキシャル薄膜の低温合成
佐藤原子ステップを有する超平坦基板を利用した酸化物ナノ構造の作製
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