研究業績」カテゴリーアーカイブ

日本セラミックス協会 2011年 年会

日本セラミックス協会 2011年 年会 3/16~3/18、静岡大学浜松キャンパスで開催された日本セラミックス協会 2011年 年会において、M1 宮宅とM1 山内が研究発表をポスターセッションで行いました。  
宮宅 原子レベルインプリントによる究極的な超平坦表面を有するガラス基板の創製
山内 NiO の水素還元による Ni/Al2O3完全整合エピタキシャル薄膜および MgO 薄膜内 Niナノグラニュラー構造の作製と磁性評価
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秋田君(D3)、土肥賞受賞

2/17、平成22年度の物質科学創造専攻・学位論文発表会が行われ、 優秀な論文発表に対して授与される「土肥賞」に吉本研秋田が選ばれ、授賞式が行われました。
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2010年度 修士論文発表会

2/9にM2 荒井とM2 中曽根が修士論文発表を行いました。
中曽根 天然層状ケイ酸塩鉱物のパルスレーザーアブレーションと薄膜合成
荒井 室温PLD法による(Mg,Ni)O固溶系エピタキシャル薄膜の作製と熱処理を利用したナノ構造の構築
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2010年度 博士論文 公聴会

12/28(2010年)に博士課程3年の秋田が、1/4に博士課程2年の加藤が学位論文発表を行いました。
秋田Study on atomic-scale surface patterning of glass substrates for functional oxide thin films by thermal nanoimprint
加藤Study on Epitaxial Growth and Electrical Property of Functional Boride Thin Films Fabricated by Laser MBE
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第71回 応用物理学会学術講演会

9/14~9/17、第72回 応用物理学会学術講演会が長崎大学で行われ、M1中井とM1 宮宅およびM1 山内が研究発表を行いました。
中井PLD法による希土類ドープNiOエピタキシャル薄膜の低温成長と評価
宮宅熱ナノインプリント法による0.2nm原子ステップ超平坦ガラス基板の作製と評価
山内(Ni,Mg)O固溶系(111)エピタキシャル薄膜の室温成長と機能化
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