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秋葉君(D1)、応用物理学会 講演奨励賞受賞
D1 秋葉が、第51回 応用物理学関係連合講演会において、講演奨励賞を受賞しました。 第51回 応用物理学関係連合講演会
2004年3月28～31日、東京工科大学で開催された第51回 応用物理学関係連合講演会において、修士の学生全員が研究発表をしました。
D1の秋葉が、応用物理学会講演奨励賞を受賞しました。
| 佐藤 | 酸化物ナノ構造を用いたインプリントによる高分子薄膜への表面ナノパターン形成 |
| 劉 | レーザーMBE法によるAlN/TiN積層薄膜の室温エピタキシャル成長 |
| 會田 | PLD法による非晶質Si-(O,C)系薄膜の作製とレーザーアニールによる電気特性制御 (2) |
| 原 | アダマンタンを含む有機物ターゲットのレーザーアブレーション (2) |
| 松田 | 原子ステップを利用した導電性酸化物薄膜の一次元ナノ構造の作製と評価 |
| 舘田 | 電子ビーム誘起低温成長を利用した機能性セラミックス薄膜の選択エピタキシャル成長 |
カテゴリー: 学会発表
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2004年、卒業生歓送会
2004年3月22日、横浜青葉台の「梅の花」において、卒業生の歓送会を開きました。卒業後の活躍を祈念しています。 修士論文発表会の打ち上げ
2004年2月16日、M2 3名の修論発表が無事終わり、その夜打ち上げコンパを開いて労いました。 平成15年度 修士論文発表会
修士課程2年の會田、劉および佐藤が修士論文発表を行いました。
| 會田 | SiO/炭素ターゲットのレーザーアブレーションと新機能薄膜の創製 |
| 劉 | レーザーMBE法による窒化物系エピタキシャル薄膜の低温合成 |
| 佐藤 | 原子ステップを有する超平坦基板を利用した酸化物ナノ構造の作製 |
カテゴリー: 学位論文発表
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