「研究業績」カテゴリーアーカイブ

2017年3月14日～3月17日、パシフィコ横浜（神奈川県横浜市）で開催された第64回 応用物理学会 秋季学術講演会にて、M1 後藤、難波、木下、藤元、中村が研究発表をしました。

後藤	熱ナノインプリント作製した金ナノ粒子コート超平坦フレキシブル基板 （15a-423-3 / 後藤・嶋田・金子・松田・吉本）
難波	一軸加圧下熱処理によるMoOX薄膜の結晶相制御と特性評価 （15a-P5-2 / 難波・土嶺・金子・松田・吉本）
木下	マイカモールドを用いた熱ナノインプリント法によるポリマー表面上ナノパターン形成 （15p-512-7 / 木下・嶋田・金子・松田・吉本）
藤元	PLD法によるV2O5-Bi2O3-WO3系ガラス薄膜の作製と光学・電気特性評価 （15p-311-5 / 藤元・高野・金子・松田・吉本）
中村	室温レーザーアニールにより作製されたβ-Ga2O3エピタキシャル薄膜の配向性制御 （14a-502-4 / 中村・内田・土嶺・金子・松田・吉本）

2017年2月17日～2月20日、沖縄県 那覇市の沖縄県市町村自治会館で開催されたThe 18^th International Symposium on Eco-materials Processing and Design (ISEPD 2017)にて、講師 松田が招待講演しました。
ISEPDは環境適応型材料や技術を広く扱う学術会議で、日本、中国、韓国、台湾を中心に多くの研究者と技術者が集まりました。

松田	Room-temperature epitaxy of wide bandgap oxide semiconductors （AI2-11 / A. Matsuda and M. Yoshimoto）

　2016年12月19日～12月22日、横浜市開港記念館および横浜情報文化センター他で開催された第26回日本MRS年次大会 (The 26th annual meeting of MRS-J)の国際セッションにおいて松田講師が以下のテーマについて研究発表を行いました。
　日本MRS (MRS-J)は、日本における材料科学・工学分野の研究開発を推し進める学会組織です。年次大会では海外からもエレクトロニクス・エネルギーからバイオ・医療まで広い分野に関連する材料の研究者と技術者が集まります。

松田	Buffer-induced room-temperature epitaxy of β-Ga2O3 thin films by excimer laser annealing （A3-O20-003 / A. Matsuda, D. Shiojiri, H. Uchida, K.Nakamura, N. Tsuchimine, S. Kaneko, and M. Yoshimoto）

2016年12月11日～12月15日、インド共和国 バンガロールのIndian Institute of Science (IISc)で開催されたInternational Union of Materials Research Society – 3^rd International Conference on Young Researchers on Advanced Materials (IUMRS-ICYRAM) 2016にて、講師 松田が招待講演してきました。また、同会議にて”Oxide Electronics”および”Photonic Materials”セッションをオーガナイズしました。

松田	Low-temperature heteroepitaxy of wide-gap oxide semiconductor thin films” （ABS-351-ICYRAM / A. Matsuda, S. kaneko and M. Yoshimoto）