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ISEPD 2017招待講演 （松田講師）
2017年2月17日～2月20日、沖縄県 那覇市の沖縄県市町村自治会館で開催されたThe 18th International Symposium on Eco-materials Processing and Design (ISEPD 2017)にて、講師 松田が招待講演しました。ISEPDは環境適応型材料や技術を広く扱う学術会議で、日本、中国、韓国、台湾を中心に多くの研究者と技術者が集まりました。
| 松田 | Room-temperature epitaxy of wide bandgap oxide semiconductors（AI2-11 / A. Matsuda and M. Yoshimoto） |
吉本先生、誕生会
常日頃のご指導に心からの感謝を込めまして、ご健康で幸多き一年となられますようスタッフ・学生一同より。
第26回日本MRS年次大会（松田講師）
2016年12月19日～12月22日、横浜市開港記念館および横浜情報文化センター他で開催された第26回日本MRS年次大会 (The 26th annual meeting of MRS-J)の国際セッションにおいて松田講師が以下のテーマについて研究発表を行いました。日本MRS (MRS-J)は、日本における材料科学・工学分野の研究開発を推し進める学会組織です。年次大会では海外からもエレクトロニクス・エネルギーからバイオ・医療まで広い分野に関連する材料の研究者と技術者が集まります。
| 松田 | Buffer-induced room-temperature epitaxy of β-Ga2O3 thin films by excimer laser annealing（A3-O20-003 / A. Matsuda, D. Shiojiri, H. Uchida, K.Nakamura, N. Tsuchimine, S. Kaneko, and M. Yoshimoto） |
IUMRS-ICYRAM 2016招待講演（松田講師）
| 松田 | Low-temperature heteroepitaxy of wide-gap oxide semiconductor thin films”（ABS-351-ICYRAM / A. Matsuda, S. kaneko and M. Yoshimoto） |
2016 MRS Fall Meeting & Exhibit（松田講師、M2 嶋田）
MRSは、エレクトロニクス・エネルギーからバイオ・医療まで広い分野に関連する材料の研究者と技術者が世界中から集まる国際会議です。多くの研究者と有意義な議論を行うことができました。
| 松田 | Epitaxy and Topotaxy of Vanadium Oxide Semiconductor Thin Films by Solid Phase Crystallization under Uniaxial Compression（EM6.8.14 / A. Matsuda, Y. Nozawa, R. Namba, S. Kaneko, and M. Yoshimoto） |
| 松田 | Buffer-Layer Enhanced Heteroepitaxy of β-Ga2O3:(Sn, Si) Thin Films by Room-Temperature Excimer Laser Annealing（EM11.10.19 / A. Matsuda, D. Shiojiri, H. Uchida, K. Nakamura, Y. Chen, O. Sakata, N. Tsuchimine, S. Kaneko, and M. Yoshimoto） |
| 嶋田 | Nanoimprint Fabrication of 0.3 nm-High Atomically Stepped Conducting Polymer Sheets Coated with ITO Thin Films or Au Nano-Patterns（BM7.6.14 / K. Shimada, R. Goto, T. Kinoshita, S. Kaneko, A. Matsuda, and M. Yoshimoto） |